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NS系列臺階輪廓儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀器，其主要用于臺階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測量。能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度，可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

NS系列微觀表面臺階顯微檢測儀是利用光學干涉原理，通過測量膜層表面的臺階高度來計算出膜層的厚度，500萬像素高分辨率彩色攝像機，即時進行高精度定位測量。可以將探針的形貌圖像傳輸?shù)娇刂齐娔X上，使得測量更加直觀。

NS200臺階厚度測量儀能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度，可以準確測量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料，是一款超精密接觸式微觀輪廓測量儀。

針對測量ITO導電薄膜的應用場景，NS系列臺階厚度儀結合了360°旋轉臺的全電動載物臺，能夠快速定位到測量標志位；對于批量樣件，提供自定義多區(qū)域測量功能，實現(xiàn)一鍵多點位測量；提供SPC統(tǒng)計分析功能，直觀分析測量數(shù)值變化趨勢。

NS200探針式臺階儀是一種接觸式表面形貌測量儀器，可以對微米和納米結構進行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量。臺階儀對測量工件的表面反光特性、材料種類、材料硬度都沒有特別要求，樣品適應面廣，數(shù)據(jù)復現(xiàn)性高、測量穩(wěn)定、便捷、高效，是微觀表面測量中使用非常廣泛的微納樣品測量手段。

NS200國產臺階儀能夠測量幾個納米到330μm的臺階高度。這使其可以準確測量在蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料；可以測量表面的2D形狀或翹曲。也能夠測量在生產中包含多個工藝層的半導體或化合物半導體器件所產生的應力。